◇采用空心阳极离子枪和磁控管离子枪相结合的独特新型离子枪，实现了钨超细结构薄膜。

  在超低加速电压下对具有显着充电的样品进行 SEM 观察所花费的时间和精力是无法估量的。 另外，电荷对比真的很困难。

  使用该设备，可以在短时间内安全地获得用SEM分辨率难以确认的致密且高导电的钨溅射粒子膜。

 *钨是一种导电涂层材料，在低加速电压范围内具有优异的导电性和二次电子产率。

◇可以简单地进行粒径1nm以下的钨超微粒子的包覆。

・通过使用Ar离子的离子束溅射法沉积的钨膜的粒径为0.2nm～0.5nm。

  ‍‍‍‍‍‍‍‍即使在700,000倍SEM观察中也没有观察到颗粒感，非常适合高倍率观察。

・样品表面温度在50℃以下，因此可以进行热损伤小的涂层。

・可以在短时间内涂层。（真空度达到1Pa后所需时间3～5分钟）

 · 可以绕入，狭窄的间隙也可以进行涂层和附着力优良的涂层。可以得到不易附着污染的涂膜。

・目标，标准准备了钨，根据您的要求可以换成各种目标材料。

  ※可选：也可以蚀刻。